主要特點(diǎn)：

◆  操作極其簡(jiǎn)便落地生根，用戶控制高效，模塊化構(gòu)造
◆  多用掃描 測(cè)量頭, 就極高的穩(wěn)定性作了優(yōu)化
◆  多測(cè)量模式選擇: 接觸模式，非接觸模式供給，震蕩接觸模式密度增加，力調(diào)制顯微鏡即將展開，摩擦顯微鏡和粘合顯微鏡體系流動性，力譜儀提升，相位對(duì)比度是目前主流。
◆  使用同一個(gè)測(cè)量頭可達(dá)到的掃描范圍從納米級(jí)到面積為 200 µm x 200µm
◆  包括化學(xué)對(duì)比度成像 (CCI-AFM) 模式
◆  包括保護(hù)氣體選項(xiàng)
◆  可直接在樣品實(shí)地的溫度和濕度條件下測(cè)量
◆  包括可在液體中測(cè)量的工作方式
◆  極有用途的附加模塊包括：納米電鍍(GalvanoScan)充分發揮、納米摩擦和磨損檢測(cè) (TriboScan) 以及腐蝕 (CorroScan) 和納米構(gòu)造 (LithoScan)
◆  可按用戶需要提供相匹配的軟件模塊  根據(jù)特
◆  殊要求可提供應(yīng)用實(shí)例